專利名稱：一種開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于流體的輻射消毒領(lǐng)域，特別涉及一種開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
流體輻射消毒主要指應(yīng)用紫外線燈管、中子源或其他輻射或放射源等輻射源對流體進行輻照以達(dá)到殺滅水中有害物的消毒系統(tǒng)。
每個輻射源相對于不同的介質(zhì)都具有一個輻射范圍，也就是說在特定的時長內(nèi)對處在輻射范圍內(nèi)的物體進行照射能夠達(dá)到足夠的輻射量實現(xiàn)消毒的效果，因此在流體輻射消毒系統(tǒng)中既要保持一定的液位使其不超出有效輻射范圍以保證消毒效果，又要盡量減少消毒前后流體的水頭損失。
因此在現(xiàn)有流體輻射消毒系統(tǒng)的水渠中，通常是在水渠的末端設(shè)置過水堰作為消毒渠道的出水口，并在過水堰上裝設(shè)液位控制裝置保持液位。系統(tǒng)正常運行即水壓在正常值范圍內(nèi)時，水壓控制閥門關(guān)閉，消毒后的水由過水堰頂部排出。當(dāng)水流量增大時，水壓增大，壓力控制閥門開啟放水，水壓恢復(fù)正常后壓力控制閥門關(guān)閉。另一種現(xiàn)有技術(shù)是裝設(shè)單片機系統(tǒng)控制液位，即在輻射源上裝設(shè)液位傳感器，在過水堰上裝設(shè)液位控制閥門，系統(tǒng)正常運行即液位不超過液位感應(yīng)器預(yù)設(shè)值時，閥門關(guān)閉；當(dāng)水量增大超過預(yù)設(shè)值時，液位感應(yīng)器傳遞信號至單片機控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)發(fā)出指令，液位控制閥門開啟放水，液位恢復(fù)正常后，液位控制閥門關(guān)閉。上述兩種方案中，需要在過水堰上加設(shè)閥門，由水的壓力控制或液位傳感器和單片機系統(tǒng)控制，系統(tǒng)設(shè)備多，安裝及維護不方便，可靠性不高。
另一種現(xiàn)有技術(shù)是在輻射源的后方靠近水渠末端的位置安裝溢流槽，兼做消毒系統(tǒng)的出水口，本公司的實用新型專利(02203471.4)。其主體為長方體形槽，槽的頂面與系統(tǒng)的最低限位液位在同一水平面或略低于系統(tǒng)的最低限位液位，槽的側(cè)面開口，作為出水口與消毒系統(tǒng)的出水渠相連。當(dāng)流量增大使水渠內(nèi)的水面高于槽的上表面時，液位高于溢流槽頂面的水越過槽的上表面流入槽中，經(jīng)槽的出水口排入系統(tǒng)的出水渠，達(dá)到保持液位的目的。假設(shè)溢流槽的尺寸和個數(shù)根據(jù)系統(tǒng)的實際條件設(shè)置，當(dāng)水渠內(nèi)的液位超過預(yù)設(shè)范圍時，預(yù)設(shè)液位上方的水將由溢流槽的兩側(cè)溢流進溢槽，經(jīng)溢流槽的出水口排出至系統(tǒng)的排水渠。此裝置與上述現(xiàn)有的輻射消毒系統(tǒng)中保持液位的裝置相比能可靠保持液位而無需任何電力和附加設(shè)備，結(jié)構(gòu)簡單，易維護，運行可靠、安全、節(jié)能。但它需要加長水渠尺寸，增加系統(tǒng)用地，特別是日流量超過15萬噸時此問題更顯突出，增加了土建建設(shè)和征地成本，也不利于排水。因此需要一種結(jié)構(gòu)簡單、占地面積小、能自動控制液位、運行可靠的輻射毒系統(tǒng)來滿足流體處理的需要。
另外上述輻射消毒系統(tǒng)中均存在流體通過輻射源后產(chǎn)生會水頭損失。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種無水頭損失、占地面積小、能自動維持液位、結(jié)構(gòu)簡單且運行可靠的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)。
本發(fā)明的技術(shù)方案是在水渠中輻射源的上游端和下游端分別設(shè)置隔墻將水渠分隔成進水區(qū)、消毒區(qū)和出水區(qū)三部分，消毒區(qū)與進水區(qū)和出水區(qū)通過隔墻上的開口連通，所述上游端的隔墻為導(dǎo)流墻，導(dǎo)流墻墻身封閉阻水而在靠近水渠底部的位置設(shè)有開口用于通水，所述下游端的隔墻為液位控制墻，其墻身及底部封閉阻水而在頂部開放用于通水，導(dǎo)流墻底部開口的頂部高度低于液位控制墻頂部的高度，導(dǎo)流墻墻頂?shù)母叨炔幌薜仨毻ㄟ^加高或封閉的措施以保證使進水區(qū)的水流不會越過導(dǎo)流墻的頂部流入消毒區(qū)中。所述隔墻與水渠走向呈一個角度但具有垂直于水渠走向的分量。
為提高消毒效果可以在水渠中沿水渠走向設(shè)置多組進水區(qū)、消毒區(qū)和出水區(qū)。
使用本發(fā)明技術(shù)方案的輻射消毒系統(tǒng)具有以下優(yōu)點1.系統(tǒng)中的出水區(qū)的液位通過液位控制墻限定，在設(shè)定液位控制墻高度后液位固定，可避免水頭損失，解決了系統(tǒng)水頭損失的問題；2.系統(tǒng)只有水渠、輻射源及控制系統(tǒng)，系統(tǒng)的液位控制由系統(tǒng)下游端的液位控制墻實現(xiàn)，沒有液位控制門或溢流堰的設(shè)備，結(jié)構(gòu)簡單，易于系統(tǒng)的安裝和維護；3.系統(tǒng)中在輻射源的上游端設(shè)置導(dǎo)流墻，能夠使在消毒區(qū)的進水自輻射源的底部進入，通過整個輻射源的有效輻射區(qū)域，增加了流體受到的輻射劑量，提高系統(tǒng)的消毒效果，增加系統(tǒng)的運行可靠性和安全性；4.系統(tǒng)中無溢流槽設(shè)備，可以縮短水渠的長度，減少系統(tǒng)占地面積，節(jié)約土建開支和土地成本，簡化結(jié)構(gòu)，節(jié)約開支；5.系統(tǒng)中無電動液位控制系統(tǒng)，減少電能的消耗，節(jié)約能源；6.系統(tǒng)的出水為自然溢出，運行安全可靠，提高系統(tǒng)穩(wěn)定性；7.可通過設(shè)置導(dǎo)流墻底部的開口大小控制水流量，增強消毒效果。
8.可設(shè)置液位控制墻的高度使系統(tǒng)中的消毒區(qū)內(nèi)的液位始終保持在輻射源頂部以上，有利于保護輻射源，延長輻射源的使用壽命。


圖1為本發(fā)明一個實施例的平面布置示意2為本發(fā)明一個實施例的剖面示意圖如圖所示圖中1為消毒水渠，2為紫外燈模塊，3為電控柜，4為導(dǎo)流墻，5為液位控制墻，6為進水管，7為出水管，8為水渠蓋板，9為地面，10為導(dǎo)流墻底部開口，11為液位控制墻頂部開口，A為進水區(qū)，B為消毒區(qū)，C為出水區(qū)，H1為進水區(qū)A中的液位高度，H2為消毒區(qū)B中液位高度，H3為出水區(qū)C中的液位高度。
具體實施例方式實施例1中，如圖1和2所示。在消毒水渠1中紫外線燈模塊2的上游端和下游端分別設(shè)置隔墻4和5將水渠分隔成進水區(qū)A、消毒區(qū)B和出水區(qū)C三個部分，紫外線燈模塊安裝在消毒區(qū)B內(nèi)，消毒區(qū)B與進水區(qū)A和出水區(qū)C通過隔墻4和5上的開口10和11連通，所述上游端的隔墻4為導(dǎo)流墻，導(dǎo)流墻4的墻身封閉阻水而在靠近水渠1底部的位置設(shè)有開口10用于通水，所述下游端的隔墻5為液位控制墻，其墻身及底部封閉阻水而在頂部開放用于通水，導(dǎo)流墻4上的開口10頂部的高度低于液位控制墻頂部的高度，所述隔墻4、5與水渠走向垂直。本實施例中紫外線燈管與水渠走向平行，導(dǎo)流墻的墻頂封閉。
在實際應(yīng)用中紫外線燈管也可以與水渠走向垂直排放或者紫外線燈管與水渠走向呈一定角度。
所述隔墻4、5可以與水渠走向呈一個角度但具有垂直于水渠走向的分量。
導(dǎo)流墻4的墻頂高度不限但必須通過加高或封閉的措施以保證使進水區(qū)的水流不會越過導(dǎo)流墻的頂部流入消毒區(qū)中。
為提高電控系統(tǒng)的散熱效果可以將電控系統(tǒng)的柜體3置于進水區(qū)A或出水區(qū)C中、或嵌在水渠1或隔墻4、5的墻體上通過流體的流動散熱。為實現(xiàn)更好的消毒和維持液位的效果所述導(dǎo)流墻4底部的開口10的大小和所述液位控制墻5頂部的高度可調(diào)。
本實施例中的輻射源為紫外線燈管。它也可以是中子或其他對流體輻射能夠產(chǎn)生消毒效果的輻射源。
采用本發(fā)明技術(shù)方案的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)可以應(yīng)用在生活污水、工廠企業(yè)污水、回用水、自來水消毒或其他流體的消毒領(lǐng)域。
權(quán)利要求
1一種開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，包含水渠，輻射源和電控系統(tǒng)，其特征在于在水渠(1)中輻射源(2)的上游端和下游端分別設(shè)置隔墻(4)和(5)將水渠分隔成進水區(qū)(A)、消毒區(qū)(B)和出水區(qū)(C)三部分，消毒區(qū)(B)與進水區(qū)(A)和出水區(qū)(C)通過隔墻上的開口連通，所述上游端的隔墻(4)為導(dǎo)流墻，導(dǎo)流墻的墻身封閉阻水而在靠近水渠底部的位置設(shè)有開口(10)用于通水，所述下游端的隔墻(5)為液位控制墻，其墻身及底部封閉阻水而在頂部設(shè)置開口(11)用于通水，導(dǎo)流墻底部開口(10)的頂部高度低于液位控制墻(5)頂部的高度，導(dǎo)流墻(4)墻頂?shù)母叨炔幌薜仨毻ㄟ^加高或封閉的措施以保證使進水區(qū)(A)的水流不會越過導(dǎo)流墻(4)的頂部流入消毒區(qū)(B)中。
2如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述液位控制墻(5)頂部的高度不高出輻射消毒系統(tǒng)的最高有效輻射范圍。
3如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述輻射源(2)為紫外線燈管
4如權(quán)利要求3所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述紫外線燈管與水渠(1)的走向平行排放。
5如權(quán)利要求3所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述紫外線燈管與水渠(1)的走向垂直排放。
6如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述導(dǎo)流墻與水渠(1)的走向垂直。
7如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述液位控制墻(5)與水渠(1)的走向垂直。
8如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述導(dǎo)流墻(4)與水渠(1)的走向呈一個角度但具有垂直于水渠(1)的走向的分量。
9如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述液位控制墻(5)與水渠(1)的走向呈一個角度但具有垂直于水渠(1)的走向的分量。
10如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于水渠(1)中沿水渠走向設(shè)置多組進水區(qū)(A)、消毒區(qū)(B)和出水區(qū)(C)。
11如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述電控系統(tǒng)的柜體(3)置于進水區(qū)(A)或出水區(qū)(C)中、或嵌在水渠(1)或隔墻(4)、(5)的墻體上通過流體的流動散熱。
12如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述導(dǎo)流墻(4)底部的開口(10)的大小可調(diào)。
13如權(quán)利要求1所述的開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，其特征在于所述液位控制墻(5)頂部的高度可調(diào)。
全文摘要
一種開放式水渠輻射消毒系統(tǒng)，包含水渠，輻射源和電控系統(tǒng)，所述水渠中輻射源的上游端和下游端分別設(shè)置隔墻將水渠分隔成進水區(qū)、消毒區(qū)和出水區(qū)三部分，消毒區(qū)與進水區(qū)和出水區(qū)通過隔墻上的開口連通，所述上游端的隔墻為導(dǎo)流墻，導(dǎo)流墻墻身封閉阻水而在靠近水渠底部的位置設(shè)有開口用于通水，所述下游端的隔墻為液位控制墻，其墻身及底部封閉阻水而在頂部開放用于通水，導(dǎo)流墻底部開口的頂部高度低于液位控制墻頂部的高度，導(dǎo)流墻墻頂?shù)母叨炔幌薜仨毻ㄟ^加高或封閉的措施以保證使進水區(qū)的水流不會越過導(dǎo)流墻的頂部流入消毒區(qū)中。
文檔編號A61L2/08GK1977978SQ20051012843
公開日2007年6月13日 申請日期2005年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月1日
發(fā)明者陳健, 何益民 申請人:福建新大陸環(huán)?？萍加邢薰?br>