專利名稱：一種印記戒指的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種首飾，尤其是一種戒指。
背景技術：
戒指由于其佩戴時的一些特殊的涵義，已經(jīng)成為了最普遍的一種首 飾，深為人們的喜愛，由于戒指的結構簡單，現(xiàn)在市面上的戒指多在樣 式及鑲嵌上進行設計，其樣式非常的繁多，但是現(xiàn)有的樣式及鑲嵌設計 '全部都是設于戒指的外表面，在人們?nèi)∠陆渲负蟛荒茉谑种副砻媪粝掠?記。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的之一是提供能在取下戒指后在手指表面留下印記 的一種印記戒指。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術方案 它包括一個戒指本體，所述戒指本體為一環(huán)狀結構，其改進在于 在該環(huán)狀結構的內(nèi)表面上設有一在手指表面留下印記的印記結構。 優(yōu)選地，所述印記結構為一凹陷的陰刻結構。 優(yōu)選地，所述印記結構為一凸起的陽刻結構。 優(yōu)選地，所述的陽刻結構的邊角出設有倒圓角結構。 優(yōu)選地，所述的陰刻結構或陽刻結構為文字、符號和/或圖案。
3本實用新型的印記戒指通過在戒指的內(nèi)表面上設置一印記結構，使 得在佩戴時與人們的手指表面相互作用，在人們?nèi)∠陆渲负?，會在人?的手指表面形成 一 個印記，該印記將在短時間內(nèi)保留在人們的手指表面， 形成一種紀念或者是提醒，增加了戒指佩戴的情感意義和紀念意義，使 戒指具有專屬情感的含義。


圖l是本實用新型實施例的結構示意圖。
本實用新型目的、功能及優(yōu)點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。
具體實施方式
如圖1所示，本實用新型的第一實施例包括一個戒指本體，所述戒
指本體1為一環(huán)狀結構，在該環(huán)狀結構的內(nèi)表面2上設有一在手指表面 留下印記的印記結構3。
在本第一實施例中，所述印記結構3為一凹陷的陰刻結構。所述的 陰刻結構為文字、符號和/或圖案。在人們佩戴本第一實施例的印記戒指 后取下時，在人們的手指表面的皮膚上會留下凸起的文字、符號和/或圖 案的印記。
本實用新型還提供了第二實施例，參見圖l所示，在第二實施例中， 所述印記結構3為 一凸起的陽刻結構。所述的陽刻結構為文字和/或圖案。 在人們佩戴本第二實施例的印記戒指后取下時，在人們的手指表面的皮 膚上會留下凹陷的文字、符號和/或圖案的印記。
本實施例中，為了保護人們的手指表面的皮膚不被陽刻的文字和/或圖案所刮傷，在所述的陽刻結構的邊角處設有倒圓角結構。在人們佩戴 本實施例的戒指時，陽刻的文字和/或圖案結構與人們手指表面的皮膚 平滑的接觸，保證了人們佩戴和取下時的使用安全。
以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型 的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或 等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括 在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
權利要求1、一種印記戒指，它包括一個戒指本體，所述戒指本體為一環(huán)狀結構，其特征在于在該環(huán)狀結構的內(nèi)表面上設有一在手指表面留下印記的印記結構。
2、 如權利要求1所述的印記戒指，其特征在于所述印記結構為一凹陷 的陰刻結構。
3、 如權利要求1所述的印記戒指，其特征在于所述印記結構為一凸起 的陽刻結構。
4、 如權利要求3所述的印記戒指，其特征在于所述的陽刻結構的邊角 出設有倒圓角結構。
5、 如權利要求2-4中任一項所述的印記戒指，其特征在于所述的陰刻 結構或陽刻結構為文字、符號和/或圖案。
專利摘要本實用新型涉及一種首飾，尤其是一種戒指。它包括一個戒指本體，所述戒指本體為一環(huán)狀結構，在該環(huán)狀結構的內(nèi)表面上設有一在手指表面留下印記的印記結構。本實用新型的印記戒指通過在戒指的內(nèi)表面上設置一印記結構，使得在佩戴時與人們的手指表面相互作用，在人們?nèi)∠陆渲负?，會在人們的手指表面形成一個印記，該印記將在短時間內(nèi)保留在人們的手指表面，形成一種紀念或者是提醒，增加了戒指佩戴的情感意義和紀念意義，使戒指具有專屬情感的含義。
文檔編號A44C9/00GK201388623SQ20092005471
公開日2010年1月27日 申請日期2009年4月16日 優(yōu)先權日2009年4月16日
發(fā)明者潘海泉 申請人:潘海泉