專利名稱：一種指甲銼的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種指甲銼。
現(xiàn)有的指甲銼在修磨指甲時(shí)，除工作面往復(fù)運(yùn)動(dòng)外，被修磨指甲還須同時(shí)做劃弧動(dòng)作，以保證修好的指甲圓滑、美觀；另外，現(xiàn)有的指甲銼的工作面上只有一種粒度的磨削區(qū)，這使得修磨后的指甲端面與指甲表面光潔度不一致且磨削效率低，因此，現(xiàn)有的指甲銼存在著修磨指甲端面不方便及修磨后的指甲端面不美觀，光潔度不高磨削效率低的缺點(diǎn)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的一種指甲銼由指甲銼基體及工作面組成，指甲銼基體上具有凹弧形工作面，工作面上具有銼紋或嵌有磨料，工作面上的挫紋或磨料部分分為粗磨區(qū)、精磨區(qū)和拋光區(qū)。
本發(fā)明的一種指甲銼的指甲銼基體還可以是圓柱形的，其工作面在基體的外緣上，環(huán)指甲銼基體外緣呈凹弧形。
本發(fā)明的一種指甲銼的指甲銼基體還可以是環(huán)形的，其工作面是在環(huán)形基體內(nèi)表面開出的一條或多條環(huán)行凹弧槽。
采用上述結(jié)構(gòu)后，本發(fā)明一種指甲銼由于工作面是凹弧形的其凹弧面與被修指甲端面相吻合，修磨時(shí)工作面與指甲端面的相對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡為一弧線，故修磨后的指甲端面曲線過渡圓滑、美觀且操作方便、安全可靠；工作面上不同粒度的工作區(qū)粗磨區(qū)、精磨區(qū)、拋光區(qū)修磨工作效率提高，拋光區(qū)使指甲端面獲得較高的光潔度。


圖1是本發(fā)明一種指甲銼的第一個(gè)具體實(shí)施方式
的主示圖。
圖2是
圖1沿A-A線的剖視圖。
圖3是本發(fā)明一種指甲銼的第二個(gè)具體實(shí)施方式
的主示圖。
圖4是圖3的側(cè)視示圖。
圖5是本發(fā)明一種指甲銼的第三個(gè)具體實(shí)施方式
的主示圖。
圖6是圖5沿B-B線的拋視圖。
圖3及圖4示出本發(fā)明一種指甲銼的第二個(gè)具體實(shí)施方式
，從圖3看出，該指甲銼基體1是圓柱形的，圖4示出其工作面2位于基體1外緣上，沿指甲銼基體1外緣呈環(huán)形凹弧槽。
圖5及圖6示出本發(fā)明一種指甲銼的第三個(gè)具體實(shí)施方式
，從圖5看出，該指甲銼基體1是環(huán)形的，圖6示出其工作面2是在環(huán)形指甲銼基體1內(nèi)表面開出的一條或多條環(huán)行凹弧槽，每條環(huán)行凹弧槽狀工作面2可分別為粗磨區(qū)3、精磨區(qū)4及拋光區(qū)5。
權(quán)利要求1.一種指甲銼，包括指甲銼基體及工作面，其特征是所述工作面(2)是凹弧面。
2.如權(quán)利要求1所述指甲銼，其特征是指甲銼基體(1)是圓柱形的，其工作面(2)位于指甲銼基體(1)外緣上，沿指甲銼基體(1)外緣呈環(huán)形凹弧槽狀。
3.如權(quán)利要求1所述指甲銼，其特征是該指甲銼基體(1)是環(huán)形的，環(huán)形指甲銼基體(1)內(nèi)表面上開有一條或多條環(huán)行凹弧槽，該環(huán)行凹弧槽為工作面(2)。
4.如權(quán)利要求1至3所述指甲銼，其特征是所述工作面(2)上的銼紋或磨料部分分為粗磨區(qū)(3)、精磨區(qū)(4)及拋光區(qū)(5)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種指甲銼，包括基體1及工作面2，其特征在于所述工作面2是凹弧面，且工作面2上的挫紋或磨料部分分為粗磨區(qū)3、精磨區(qū)4和拋光區(qū)5。本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有的指甲銼存在著的，修磨指甲端面弧形不方便，修磨后的指甲端面不美觀，光潔度不高，磨削效率低的問題，提供了一種修磨指甲端面弧形方便，修磨后的指甲端面曲線美觀，光潔度高且磨削效率高的指甲銼。
文檔編號(hào)A45D29/00GK2586392SQ022401
公開日2003年11月19日 申請(qǐng)日期2002年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月11日
發(fā)明者夏侯曉雷 申請(qǐng)人:夏侯曉雷