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立式對稱振動研磨機(jī)的制作方法

文檔序號:184429閱讀:374來源:國知局
專利名稱:立式對稱振動研磨機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種立式對稱振動研磨機(jī),尤其是涉及一種相對一參考對稱面對稱安裝的立式對稱振動研磨機(jī)。
背景技術(shù)
振動裝置用在運(yùn)輸、擠壓、清潔、拋光、材料分類領(lǐng)域已經(jīng)為人們所熟知。進(jìn)來,振動裝置也被用于機(jī)械化學(xué)領(lǐng)域。這個領(lǐng)域包括機(jī)械加工,如機(jī)械激活或機(jī)械合成,該機(jī)械加工可引起某些材料特性的化學(xué)變化。
典型的傳統(tǒng)振動裝置包括有用于填裝研磨介質(zhì)的腔體且該腔體支撐在彈簧和/或震動吸收器上。傳統(tǒng)振動裝置通過振動組件來達(dá)到振動。在振動的腔體內(nèi),裝在其中的物質(zhì)由振動研磨介質(zhì)作用,研磨介質(zhì)作用到物質(zhì)上的沖擊和摩擦力使得物質(zhì)被磨碎、研成粉末、機(jī)械激活等。
磨碎物質(zhì)的質(zhì)量和性質(zhì),如尺寸分布、表面種類、粒子分布等,由各種因素決定。如,這些因素可能是被研磨材料的種類、研磨介質(zhì)的硬度、所用的振動力的強(qiáng)度和方向、研磨過程的持續(xù)時間、加入試劑的化學(xué)成分或其他因素。
現(xiàn)在已有多種不同種類的振動裝置在使用。例如,美國專利號No.2,882,024描述了一種用于研磨粒狀物的非對稱振動裝置。該裝置被環(huán)繞的彈簧支撐且在其容器中心有一個振動元件。美國專利號No.4,161,848還描述了一種類似裝置,該裝置使用同樣的原理工作,只是用于物質(zhì)的表面處理。
美國專利號No.2,760,729描述了另外一種傳統(tǒng)振動裝置。該專利尤其描述了一種多腔水平安置的振動研磨機(jī),該研磨機(jī)中,外連接的馬達(dá)驅(qū)動偏心軸轉(zhuǎn)動而傳遞圓振動。德國專利號No.DE3,442,499描述了另外一種傳統(tǒng)振動裝置。在該參考文件中振動裝置由三個水平腔體組成,該裝置通過帶有平衡物的軸獲得圓振動的能量,該軸位于一等邊三角形的中心且在其頂點(diǎn)具有圓柱腔體。美國專利號No.5,570,848描述了一種單圓柱體管,該管具有不同的腔體和不同的側(cè)振動馬達(dá),向研磨介質(zhì)傳遞線性、圓和橢圓運(yùn)動。
其他傳統(tǒng)振動裝置可能包含立式結(jié)構(gòu)。如,美國專利號No.2,922,588描述了一種用于處理水懸浮液中的纖維的立式結(jié)構(gòu)、非對稱研磨機(jī)。美國專利號No.3,687,379也描述了一種在各腔體中使用槌和砧作為研磨介質(zhì)的立式結(jié)構(gòu)、非對稱研磨機(jī)。在該參考文件中,振動力由外部連接在振動管上的激勵器提供。
但是,上述這些以及其他傳統(tǒng)振動裝置都不能令人滿意地研磨物質(zhì),也不能以一種令人滿意的有效方式運(yùn)轉(zhuǎn)。
因此,需要改進(jìn)振動裝置。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)各種實(shí)施例,本發(fā)明涉及一種立式對稱振動研磨機(jī)。該立式對稱振動研磨機(jī)包括上振動管和下振動管。上振動管和下振動管連接構(gòu)成一完整振動體。該完整振動體通過一支撐元件支撐和/或懸掛。上振動管和下振動管位于一對稱參考面的相反側(cè)且大致對稱。上振動管和下振動管各自具有一與對稱參考面垂直的共同軸。在操作時,振動研磨機(jī)最好設(shè)置為使上振動管和下振動管的共同軸導(dǎo)向設(shè)置與重力方向一致。
該振動研磨機(jī)還具有多個激勵元件,上振動管和下振動管各自至少連接有一個激勵元件。每個激勵元件設(shè)置為都能在與振動管大致切線方向引起振動管激勵。有利地是,每個激勵元件都被設(shè)置成以同一同步頻率轉(zhuǎn)動和擺動。更為有利地是,提供給每個激勵元件的功率與激勵元件和對稱參考面的距離成正比。
在一個實(shí)施方式中,立式對稱振動研磨機(jī)中每個激勵元件的振動頻率,如轉(zhuǎn)動或擺動,設(shè)置為一常數(shù)。在另一個實(shí)施方式中,立式對稱振動研磨機(jī)中每個激勵元件的振動頻率,如轉(zhuǎn)動或擺動,設(shè)置為一變量。激勵元件可成組出現(xiàn),如成對或成套,且這些成組出現(xiàn)的激勵元件最好處在與對稱參考面平行的平面上。此外,每個上振動管和下振動管可包含幾對或/和幾套激勵元件,相應(yīng)對或/和套的激勵元件位于對稱參考面的對面且與對稱參考面的距離相等。此外,激勵元件可在對稱參考面的一邊或兩邊彼此對齊。另一種選擇,激勵元件也可在對稱參考面的一邊或兩邊彼此不對齊。更進(jìn)一步,激勵元件可沿上振動管和下振動管的圓周等距間隔。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例來說明立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖;圖1(b)是圖1所示的立式對稱振動研磨機(jī)的上振動管和下振動管連接關(guān)系側(cè)視圖;圖2是圖1所示的立式對稱振動研磨機(jī)的立體圖;圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)剖視圖;圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,激勵元件的立體圖;圖5是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,激勵元件的立體圖;圖6是根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施例,激勵元件的立體圖;圖7是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例來說明的格網(wǎng);圖8是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,立式對稱振動研磨機(jī)的局部透視圖;圖9是圖11所示的立式對稱振動研磨機(jī)的上振動管沿線9-9方向的俯視圖;圖10是圖11所示的立式對稱振動研磨機(jī)的下振動管沿線10-10方向的剖視圖;圖11是圖8所示立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖;圖12是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,立式對稱振動研磨機(jī)的局部透視圖;圖13是圖14所示的立式對稱振動研磨機(jī)的上振動管沿線13-13方向的俯視圖;圖14是圖12所示立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖;圖15是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,立式對稱振動研磨機(jī)的局部透視圖;圖16是圖17所示的立式對稱振動研磨機(jī)的上振動管沿線16-16方向的俯視圖;圖17是圖15所示立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖;
圖18是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,立式對稱振動研磨機(jī)的局部透視圖;圖19是圖21所示的立式對稱振動研磨機(jī)的上振動管沿線19-19方向的俯視圖;圖20是圖21所示的立式對稱振動研磨機(jī)的下振動管沿線20-20方向的剖視圖;圖21是圖18所示立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖;圖22是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,立式對稱振動研磨機(jī)的局部透視圖;圖23是圖25所示的立式對稱振動研磨機(jī)的上振動管沿線23-23方向的俯視圖;圖24是圖25所示的立式對稱振動研磨機(jī)的下振動管沿線24-24方向的剖視圖;圖25是圖22所示立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖;圖26是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,說明立式對稱振動研磨機(jī)使用電動馬達(dá)驅(qū)動激勵元件的能量供給裝置;圖27是根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施例,說明立式對稱振動研磨機(jī)使用液壓馬達(dá)驅(qū)動激勵元件的能量供給裝置;圖28是根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施例,說明立式對稱振動研磨機(jī)使用風(fēng)動馬達(dá)驅(qū)動激勵元件的能量供給裝置;圖29是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,代表常量頻率擺動分布的圓錐說明圖;圖30是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,代表變量頻率擺動分布的偽圓錐說明圖;圖31是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,三個平面所示代表變量頻率擺動分布的偽圓錐說明圖;圖32是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,說明供給各振動平面的相關(guān)功率。
具體實(shí)施例方式
根據(jù)不同的實(shí)施例,本發(fā)明涉及一種立式對稱振動研磨機(jī),用于把物質(zhì),如干物質(zhì),研磨、研細(xì),或把水溶液中的物質(zhì)研成毫微粒。例如,本發(fā)明立式對稱振動研磨機(jī)可用于生產(chǎn)水泥,或任何一種需要研磨、研細(xì)、研小的產(chǎn)品。
圖1所示為根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施例的立式對稱振動研磨機(jī)。具體地,圖1是立式對稱振動研磨機(jī)100的側(cè)視圖。另一方面,圖2是圖1所示立式對稱振動研磨機(jī)100的立體圖。立式對稱振動研磨機(jī)100包括一上振動管102和下振動管104。上振動管102和下振動管104彼此連接,例如通過連接棒118a,構(gòu)成一完整振動體106。完整振動體106由支撐元件108支撐。有利的是,完整振動體106和支撐元件108這樣配置完整振動體106的一部分由支撐元件108支撐,完整振動體106的一部分由支撐元件108懸掛。例如,在一優(yōu)選實(shí)施例中,完整振動體106和支撐元件108設(shè)置為上振動管102由支撐元件108支撐,下振動管104由支撐元件108懸掛。
支撐元件108可包含一阻尼元件118,如一套彈簧和/或一套彈性隔離器,用來抑止振動傳遞到支撐元件108。在一個實(shí)施例中,阻尼元件118可位于完整振動體106的外圓周內(nèi)。在另一個實(shí)施例中,阻尼元件118可位于完整振動體106的外圓周外。圖1(b)是圖1所示立式對稱振動研磨機(jī)的上振動管和下振動管的連接設(shè)置的側(cè)視圖。
如圖1所示,立式對稱振動研磨機(jī)100還規(guī)定了一對稱參考面110。對稱參考面110定義為一平面,上振動管102和下振動管104對稱設(shè)置于對稱參考面110的相反面。圖1說明上振動管102位于對稱參考面110的上方,而下振動管104位于對稱參考面110的下方,且上振動管102和下振動管104大致與對稱參考面110對稱。
此外,上振動管102和下振動管104各自規(guī)定一縱向軸。有利地是,上振動管102和下振動管104各自規(guī)定的縱向軸同軸形成一共同軸,如共同軸112,該軸與對稱參考面110垂直。運(yùn)轉(zhuǎn)時,立式對稱振動研磨機(jī)100最好設(shè)置為上振動管102和下振動管104的共同軸112導(dǎo)向與重力方向一致。
立式對稱振動研磨機(jī)100還包含許多激勵元件114。在一個實(shí)施例中,立式對稱振動研磨機(jī)100至少包含一個與上振動管102連接的,如側(cè)面連接的激勵元件114,至少包含一個與下振動管104連接的,如側(cè)面連接的激勵元件114。但是,立式對稱振動研磨機(jī)100至少包含一對114a激勵元件1141、1142與上振動管102連接;至少包含一對114b激勵元件1143、1144與下振動管104連接。每個激勵元件114可引起一個方向或一個與振動管102、104大致相切的軸向的激勵,如移動或振動。例如,如圖1所示的實(shí)施例中,每個激勵元件114分別一端與上振動管102和下振動管104的外壁連接,另一端與支撐元件108連接,在振動管102、104大致切線方向上分別造成上振動管102和下振動管104激勵。
可使用不同種類的激勵元件。在一個實(shí)施例中,激勵元件114設(shè)置為通過轉(zhuǎn)動造成激勵。在另一個實(shí)施例中,激勵元件114設(shè)置為通過擺動造成激勵。激勵元件114可為電磁振動器。每個激勵元件114最好以同步頻率運(yùn)動。換句話說,激勵對114a的激勵元件1141、1142彼此同步,以同一頻率運(yùn)動,激勵對114b的激勵元件1143、1144彼此同步,以同一頻率運(yùn)動。此外,與上振動管102連接的激勵元件1141、1142和與下振動管104連接的激勵元件1143、1144可彼此同步,以同一頻率運(yùn)動。在一個實(shí)施例中,每個激勵元件114的運(yùn)動頻率是一個常數(shù)。在其他實(shí)施例中,每個激勵元件114的運(yùn)動頻率是一個不定頻率。
在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,如圖1所示,立式對稱振動研磨機(jī)100可這樣設(shè)置,一對激勵元件114的一個激勵元件與另一個激勵元件沿各自振動管102、104的圓周等距間隔。如在對114a中,激勵元件1141、1142相對于對方沿上振動管102的圓周等距間隔。類似地,在對114b中,激勵元件1143、1144相對于對方沿下振動管104的圓周等距間隔。
此外,在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,如圖1所示,立式對稱振動研磨機(jī)100可這樣設(shè)置,激勵元件114位于與對稱參考面110平行的平面。例如,在激勵對114a中,激勵元件1141、1142位于與對稱參考面110平行的平面120上。類似地,在激勵對114b中,激勵元件1143、1144位于與對稱參考面110平行的平面122上。
有利地是,立式對稱振動研磨機(jī)100可這樣設(shè)置,包括連接在上振動管的第一對激勵元件的平面與對稱參考面間的距離和包括連接在下振動管的第二對激勵元件的平面與對稱參考面的距離相等,或至少大致相等。例如,如圖1所示,包含第一激勵對114a的激勵元件1141、1142的平面120與對稱參考面110間的距離和包含第二激勵對114b的激勵元件1143、1144的平面122與對稱參考面110間的距離相等。
為使激勵元件114工作,每個激勵元件114都供給了能量。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,供給個每個激勵元件114的能量根據(jù)激勵元件114和對稱參考面110間的距離決定。例如,供給個每個激勵元件114的能量與激勵元件114和對稱參考面110間的距離成正比。此外,立式對稱振動研磨機(jī)100可這樣設(shè)置,相等的能量供給相應(yīng)的激勵元件114,如位于對稱參考面110對面且于對稱參考面110的距離相等的激勵元件。應(yīng)該明白,在其他實(shí)施例中,供給每個激勵元件114的能量可能不是根據(jù)激勵元件114和對稱參考面110間的距離決定,但是根據(jù)一種不同的安排方式,供給的能量可能相等或不等。
立式對稱振動研磨機(jī)100可設(shè)置為,激勵元件114的旋轉(zhuǎn)軸可與穿過上振動管102和下振動管104的共同軸112的平面成一0°到180°的角a。因此,立式對稱振動研磨機(jī)100可這樣設(shè)置,上振動管102的激勵元件1141、1142的轉(zhuǎn)軸124a、124b與穿過上振動管102的共同軸112的平面可成一0°到180°的角。類似地,立式對稱振動研磨機(jī)100可設(shè)置為,下振動管104的激勵元件1143、1144的轉(zhuǎn)軸124c、124d與穿過下振動管104的共同軸112的平面可成一0°到180°的角。在所示實(shí)施例中,立式對稱振動研磨機(jī)100可設(shè)置為,上振動管102的激勵元件1141、1142的轉(zhuǎn)軸124a、124b,下振動管104的激勵元件1143、1144的轉(zhuǎn)軸124c、124d與穿過共同軸112的平面成一近似80°的角。最好是,立式對稱振動研磨機(jī)100設(shè)置為,相對于穿過上振動管102的共同軸112的平面的上振動管102的激勵元件1141、1142的轉(zhuǎn)軸124a、124b同相對于穿過下振動管104的共同軸112的平面的下振動管104的激勵元件1143、1144的轉(zhuǎn)軸124c、124d最好相等。但是,在其他實(shí)施例中,立式對稱振動研磨機(jī)100可設(shè)置為,相對于穿過上振動管102的共同軸112的平面的上振動管102的激勵元件1141、1142的轉(zhuǎn)軸124a、124b同相對于穿過下振動管104的共同軸112的平面的下振動管104的激勵元件1143、1144的轉(zhuǎn)軸124c、124d不相等。
激勵元件114可全部相對彼此沿同一方向轉(zhuǎn)動,如順時針或逆時針,或者一些激勵元件可以相對其他激勵元件相反的方向轉(zhuǎn)動。但是,位于對稱參考面110特定側(cè)的每個激勵元件114最好設(shè)置為與對稱參考面110那個特定側(cè)的每個激勵元件114的轉(zhuǎn)動方向相同。例如,位于對稱參考面110上方的每個激勵元件1141、1142相對彼此設(shè)置為同一轉(zhuǎn)動方向(順時針)。類似地,位于對稱參考面110下方的每個激勵元件1143、1144相對彼此設(shè)置為同一轉(zhuǎn)動方向(逆時針)。在一個實(shí)施例中,立式對稱振動研磨機(jī)100設(shè)置為,上振動管102的激勵元件1141、1142與下振動管104的激勵元件1143、1144設(shè)置為以同一方向轉(zhuǎn)動。作為選擇,另外一個實(shí)施例中,立式對稱振動研磨機(jī)100設(shè)置為,上振動管102的激勵元件1141、1142與下振動管104的激勵元件1143、1144設(shè)置為以相反方向轉(zhuǎn)動。在一個實(shí)施例中,激勵元件114可在0°到90°的角Ω之間擺動。
在一個實(shí)施例中,上振動管102的激勵元件114沿圓周與下振動管104的激勵元件114對齊。作為選擇,振動管102的激勵元件114沿圓周與下振動管104的激勵元件114不對齊。例如,圖2說明上振動管102的激勵元件1141、1142位于0°和180°的相對圓周位置,下振動管104的激勵元件1143、1144位于90°和270°的相對圓周位置。因此,本實(shí)施例中,上振動管102的激勵元件1141、1142與下振動管104的激勵元件1143、1144沿圓周錯開90°,不對齊。但是,應(yīng)該明白,在其它的實(shí)施例中,上振動管102的激勵元件1141、1142與下振動管104的激勵元件1143、1144沿圓周可以不是呈90°錯開。
圖3是根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例立式對稱振動研磨機(jī)100的一個側(cè)剖視圖。圖3所示為立式對稱振動研磨機(jī)100,其中,上振動管102和下振動管104各形成一腔體130。例如,上振動管102形成一上腔體130a,而下振動管104形成一下腔體130b。每個腔體130中裝有用于研磨置于腔體130中的研磨物質(zhì)的研磨介質(zhì)132。例如,上腔體130a中裝有用于研磨裝在上腔體130a中的研磨物質(zhì)的研磨介質(zhì)132a,下腔體130b中裝有用于研磨裝在下腔體130b中的研磨物質(zhì)的研磨介質(zhì)132b。裝在上腔體130a中的研磨介質(zhì)132a可以與裝在下腔體130b中的研磨介質(zhì)132b相同或不同。此外,裝在上腔體130a和下腔體130b的研磨介質(zhì)的重量可相等。
在每個腔體130a、130b的底部分別是格網(wǎng)134a、134b。圖7為根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例說明格網(wǎng),如格網(wǎng)134a、134b。每個格網(wǎng)134a、134b在其上有開口,該開口小于裝在腔體130a、130b的研磨介質(zhì)的最小尺寸。例如,格網(wǎng)134a位于上腔體130a的底部,其上有比裝在腔體130a的研磨介質(zhì)132a的最小尺寸還要小的開口。類似地,格網(wǎng)134b位于腔體130b的底部,其上有比裝在腔體130b的研磨介質(zhì)132b的最小尺寸還要小的開口。網(wǎng)134a、134b可為根據(jù)選擇進(jìn)行關(guān)閉,以防止物質(zhì)從其中流出。
激勵元件114可由電動馬達(dá)140驅(qū)動。例如,圖4為根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,激勵元件114的立體圖。圖4所示激勵元件114包含有一電動馬達(dá)140a,電動馬達(dá)140a相對于激勵元件114位于激勵元件114的外部。如圖所示,電動馬達(dá)140a與激勵元件114通過一連接元件111聯(lián)結(jié)。圖4還示出一偏軸配重142,配重142能使激勵元件114在由電動馬達(dá)140a驅(qū)動時發(fā)生振動。激勵元件114還包括一安裝支架144,用于把激勵元件114安裝在上振動管102或下振動管104。
作為選擇,激勵元件114可由裝在內(nèi)部的電動馬達(dá)140b驅(qū)動。例如,圖5為根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,激勵元件114的立體圖,該圖中激勵元件114包含有一電動馬達(dá)140b,電動馬達(dá)140b相對于激勵元件114位于激勵元件114的內(nèi)部。圖5說明裝在內(nèi)部的電動馬達(dá)140b使激勵元件114運(yùn)動,如以轉(zhuǎn)動方式振動。相反,圖6為根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,激勵元件114的立體圖,該圖中激勵元件114包含有一電動馬達(dá)140c,電動馬達(dá)140c相對于激勵元件114位于激勵元件114的內(nèi)部,其中裝在內(nèi)部的電動馬達(dá)140c使激勵元件114以線性方式運(yùn)動,如以線性方式振動。
應(yīng)該明白,圖4至圖6各激勵元件114的實(shí)施例包含一電動馬達(dá)140,在其他實(shí)施例中,激勵元件114可由其它馬達(dá),如液壓馬達(dá)、風(fēng)動馬達(dá)等驅(qū)動。使用液壓馬達(dá)、風(fēng)動馬達(dá)驅(qū)動激勵元件的實(shí)施例分別結(jié)合圖27和28在下面詳細(xì)說明。
根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例,圖8到10圖示了立式對稱振動研磨機(jī)。具體地,圖8是立式對稱振動研磨機(jī)200的局部透視圖。而圖11則為圖8所示立式對稱振動研磨機(jī)200的側(cè)視圖。立式對稱振動研磨機(jī)200包括上振動管202和下振動管204。上振動管202和下振動管204彼此連接構(gòu)成一完整振動體206,該完整振動體206由支撐元件208支撐(局部圖示),如圖1所示的支撐元件。有利地是,支撐元件208和完整振動體206設(shè)置為上振動管202支撐在支撐元件208上,下振動管204懸掛在支撐元件208下。支撐元件208可包括一阻尼元件218,如一套彈簧和/或一套彈性隔離器,以抑止振動向支撐元件208傳遞。
如圖8所示,立式對稱振動研磨機(jī)200還規(guī)定了一對稱參考面210。對稱參考面210為一平面,上振動管202和下振動管204位于,如對稱設(shè)置于對稱參考面210的相反面。如圖8所示,對稱參考面210為由+x和+y軸構(gòu)成的平面。圖8說明上振動管202位于對稱參考面210的上方,而下振動管204位于對稱參考面210的下方,且上振動管202和下振動管204大致關(guān)于對稱參考面210對稱。
此外,上振動管202和下振動管204各自規(guī)定一縱向軸,圖8所示為+z軸。有利地是,上振動管202和下振動管204各自規(guī)定的縱向軸同軸形成一共同軸,如共同軸212,該軸與對稱參考面210垂直。運(yùn)轉(zhuǎn)時,立式對稱振動研磨機(jī)200最好放置為使上振動管202和下振動管204的共同軸212導(dǎo)向與重力方向一致。
立式對稱振動研磨機(jī)200包括三對214a、214b、214c激勵元件214與上振動管202連接,其中第一激勵對214a包含激勵元件2141、2142,第二激勵對214b包含激勵元件2143、2144,第三激勵對214c包含激勵元件2145、2146。此外,立式對稱振動研磨機(jī)200包括三對214d、214e、214f激勵元件與下振動管204連接,其中第一激勵對214d包含激勵元件2147、2148,第二激勵對214e包含激勵元件2149、2150,第三激勵對214f包含激勵元件2151、2152。每個激勵元件214設(shè)置為可引起一個方向或一個與振動管202、204大致相切的軸向的激勵,如移動或振動。
在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,供給每個激勵元件214的能量根據(jù)激勵元件214和對稱參考面210間的距離決定。例如,供給每個激勵元件214的能量與激勵元件214和對稱參考面210間的距離成正比。此外,立式對稱振動研磨機(jī)200可設(shè)置為,相等的能量供給相應(yīng)的激勵元件214,如位于對稱參考面210對面且與對稱參考面210的距離相等的激勵元件。圖32圖示說明供給不同振動平面的相關(guān)功率。如圖32所示,供給不同振動平面的功率可與振動平面和對稱參考平面的距離成正比或不成正比。此外,供給不同振動平面的功率可由方程z=f(x)表示,其中f(x)可包含任何方程,因此,f(x)可在圖32中表示為任何線、曲線。
圖9是圖11所示立式對稱振動研磨機(jī)200的上振動管202沿線9-9的俯視圖。圖10是圖11所示的立式對稱振動研磨機(jī)的下振動管204沿線10-10方向的剖視圖。如圖9和圖10所示,立式對稱振動研磨機(jī)200可設(shè)置為,一對激勵元件214的一個激勵元件與另一個激勵元件沿各自振動管202、204的圓周等距間隔。如在對214a中,2141、2142相對于對方沿上振動管202的圓周等距間隔,在對214b中,2143、2144相對于對方沿上振動管202的圓周等距間隔,等等。
此外,立式對稱振動研磨機(jī)200可這樣設(shè)置至少其中一些,但最好是全部,激勵元件214相對于其他激勵元件214沿各自振動管的圓周等距間隔。例如,如圖9所示,沿上振動管202的圓周,激勵對214a的激勵元件2141、2142,激勵對214b的激勵元件2143、2144,激勵對214c的激勵元件2145、2146沿圓周呈60°角間隔。類似地,如圖10所示,沿下振動管204的圓周,激勵對214d的激勵元件2147、2148,激勵對214e的激勵元件2149、2150,激勵對214f的激勵元件2151、2152沿圓周呈60°角間隔。
在一個實(shí)施例中,上振動管202的激勵元件214沿圓周與下振動管的激勵元件214對齊。作為選擇,上振動管202的激勵元件214沿圓周與下振動管的激勵元件214不對齊。更具體地,立式對稱振動研磨機(jī)200可設(shè)置為至少其中一些,但最好是全部,位于對稱參考面210一側(cè)的激勵元件214不與位于對稱參考面210另一側(cè)的其他激勵元件214沿各自振動管202、204的圓周對齊。例如,如圖9所示,沿上振動管202的圓周,激勵對214a的激勵元件2141、2142沿圓周分別位于0°和180°角,激勵對214b的激勵元件2143、2144沿圓周分別位于120°和300°角,激勵對214c的激勵元件2145、2146沿圓周分別位于60°和240°角。類似地,如圖10所示,沿下振動管204的圓周,激勵對214d的激勵元件2147、2148沿圓周分別位于90°和270°角,激勵對214e的激勵元件2149、2150沿圓周分別位于30°和210°角,激勵對214f的激勵元件2151、2152沿圓周分別位于150°和330°角。
如圖11所示,立式對稱振動研磨機(jī)200可設(shè)置為激勵元件214激勵對位于與對稱參考面210平行的平面上。例如,上振動管202中,在激勵對214a中,激勵元件2141、2142位于平面220,而在激勵對214b中,激勵元件2143、2144位于平面222,激勵對214c中,激勵元件2145、2146位于平面224。平面220、222、224均與對稱參考面210平行。類似地,下振動管204中,在激勵對214d中,激勵元件2147、2148位于平面226,而在激勵對214e中,激勵元件2149、2150位于平面228,激勵對214f中,激勵元件2151、2152位于平面230。平面226、228、230均與對稱參考面210平行。
有利地是,立式對稱振動研磨機(jī)200可設(shè)置為上振動管的振動平面與對稱參考面的距離和下振動管的振動平面與對稱參考面的距離相等,或至少大致相等。例如,如圖11所示,包括激勵對214a的激勵元件2141、2142的平面220與對稱參考面210間的距離和包括激勵對214d的激勵元件2147、2148的平面226與對稱參考面210間的距離相等。類似地,包括激勵對214b的激勵元件2143、2144的平面222與對稱參考面210間的距離與包括激勵對214e的激勵元件2149、2150的平面228與對稱參考面210間的距離相等。進(jìn)一步,包括激勵對214c的激勵元件2145、2146的平面224與對稱參考面210間的距離與包括激勵對214f的激勵元件2151、2152的平面230與對稱參考面210間的距離相等。
圖12到圖14表示根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的立式對稱振動研磨機(jī)。具體地,圖12是立式對稱振動研磨機(jī)300的局部透視圖。圖14是圖12所示立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖。立式對稱振動研磨機(jī)300包括一上振動管302和下振動管304,上振動管302和下振動管304彼此連接,構(gòu)成一完整振動體306。完整振動體306由支撐元件308支撐(局部圖示),如圖1所示的支撐元件。有利的是,完整振動體306和支撐元件308配置為上振動管302支撐在支撐元件308上,下振動管304懸掛在支撐元件308下。支撐元件308可包括一阻尼元件318,如一套彈簧和/或一套彈性隔離器,用以抑止振動傳遞到支撐元件308。
如圖12所示,立式對稱振動研磨機(jī)300還規(guī)定了一對稱參考面310。上振動管302和下振動管304位于,如對稱設(shè)置于對稱參考面310的相反面。圖12說明上振動管302位于對稱參考面310的上方,而下振動管304位于對稱參考面310的下方,且上振動管302和下振動管304大致關(guān)于對稱參考面310對稱。
立式對稱振動研磨機(jī)300包括三對激勵元件314激勵對314a、314b、314c與上振動管302連接,其中第一對314a包括激勵元件3141、3142,第二對314b包括激勵元件3143、3144,第三對314c包括激勵元件3145、3146。此外,立式對稱振動研磨機(jī)300包括三對激勵元件314激勵對314d、314e、314f與下振動管304連接,其中第一對314d包括激勵元件3147、3148,第二對314e包括激勵元件3149、3150,第三對314f包括激勵元件3151、3152。每個激勵元件314設(shè)置為可引起一個方向或一個與振動管302、304大致相切的軸向的激勵,如移動或振動。
圖13是圖14所示的立式對稱振動研磨機(jī)300的上振動管302沿線13-13方向的俯視圖。如圖13所示,立式對稱振動研磨機(jī)300可設(shè)置為每對激勵元件314中的一個與另一個激勵元件314沿各自振動管302、304的圓周等距間隔。例如,在對314a中,激勵元件3141、3142相對于對方沿上振動管302的圓周等距間隔,在對314b中,激勵元件3143、3144相對于對方沿上振動管302的圓周等距間隔,等等。
在圖12到圖14所示的實(shí)施例中,每個上振動管302的激勵元件314沿圓周與每個其他上振動管302的激勵元件314對齊。類似地,每個下振動管304的激勵元件314沿圓周與每個其他下振動管304的激勵元件314對齊。進(jìn)一步,圖12到14說明一實(shí)施例,上振動管302的激勵元件314與下振動管304的激勵元件314沿圓周不對齊。例如,如圖13所示,沿上振動管302圓周,激勵元件3141、3143、3145均沿圓周位于0°角,激勵元件3142、3144、3146均沿圓周位于180°角。類似地,如圖13所示,沿下振動管304圓周,激勵元件3147、3149、3151均沿圓周位于90°角,激勵元件3148、3150、3152均沿圓周位于270°角。應(yīng)該明白,在其他實(shí)施例中,激勵元件314可以與上述不同的設(shè)置方式對齊或不對齊。
在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,供給每個激勵元件314的能量根據(jù)激勵元件314和對稱參考面310間的距離決定。例如,供給每個激勵元件314的能量與激勵元件314和對稱參考面310間的距離成正比。
圖15到17根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例說明立式對稱振動研磨機(jī)。具體地,圖15是立式對稱振動研磨機(jī)400的局部透視圖。而圖17是圖15所示立式對稱振動研磨機(jī)的側(cè)視圖。立式對稱振動研磨機(jī)400包括一上振動管402和下振動管404,上振動管402和下振動管404彼此連接,構(gòu)成一完整振動體406。完整振動體406由支撐元件支撐,如圖1所示的支撐架,但圖15中所示僅為支撐元件408的一部分。有利的是,完整振動體406和支撐元件408配置為上振動管402支撐在支撐元件408上,下振動管404懸掛在支撐元件408下。支撐元件408可包含一阻尼元件418,如一套彈簧和/或一套彈性隔離器,用來抑止振動傳遞到支撐元件408。
如圖15所示,立式對稱振動研磨機(jī)400還規(guī)定了一對稱參考面410。上振動管402和下振動管404位于,如對稱設(shè)置于對稱參考面410的相反面。圖15說明上振動管402位于對稱參考面410的上方,而下振動管404位于對稱參考面410的下方,且上振動管402和下振動管404大致關(guān)于對稱參考面410對稱。
立式對稱振動研磨機(jī)400包括兩對激勵元件414激勵對414a、414b與上振動管402連接,其中第一對414a包括激勵元件4141、4142,第二對414b包括激勵元件4143、4144。此外,立式對稱振動研磨機(jī)400包括兩對激勵元件414激勵對414d、414e與下振動管404連接,其中第一對414d包括激勵元件4147、4148,第二對414e包括激勵元件4149、4150。每個激勵元件414設(shè)置為可引起一個方向或一個與振動管402、404大致相切的軸向的激勵,如移動或振動。
圖16是圖17所示的立式對稱振動研磨機(jī)400的上振動管402沿線16-16方向的俯視圖。如圖16所示,立式對稱振動研磨機(jī)400可這樣設(shè)置每對激勵元件414中的一個與另一個激勵元件414沿各自振動管402、404的圓周等距間隔。例如,在對414a中,4141、4142相對于對方沿上振動管402的圓周等距間隔,在對414b中,4143、4144相對于對方沿上振動管402的圓周等距間隔。
在圖15到17所示的實(shí)施例中,上振動管402的激勵元件414沿圓周與其他上振動管402的激勵元件414對齊。類似地,下振動管404的激勵元件414沿圓周與其他下振動管404的激勵元件414對齊。進(jìn)一步,圖15到17中,上振動管402的激勵元件414與下振動管404的激勵元件414沿圓周不對齊。例如,如圖16所示,沿上振動管402圓周,激勵元件4141、4143均沿圓周位于0°角,激勵元件4142、4144均沿圓周位于180°角。類似地,如圖16所示,沿下振動管404圓周,激勵元件4147、4149均沿圓周位于90°角,激勵元件4148、4150均沿圓周位于270°角。
在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,供給每個激勵元件414的能量根據(jù)激勵元件414和對稱參考面410間的距離決定。例如,供給每個激勵元件414的能量與激勵元件414和對稱參考面410間的距離成正比。
圖18到21根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例說明立式對稱振動研磨機(jī)。具體地,圖18是立式對稱振動研磨機(jī)500的局部透視圖。而圖21是圖18所示立式對稱振動研磨機(jī)500的側(cè)視圖。立式對稱振動研磨機(jī)500包括一上振動管502和下振動管504,上振動管502和下振動管504彼此連接,構(gòu)成一完整振動體506。完整振動體506由支撐元件支撐(部分圖示),如圖1所示的支撐架。有利的是,完整振動體506和支撐元件508配置為上振動管502支撐在支撐元件508上,下振動管504懸掛在支撐元件508下。支撐元件508可包含一阻尼元件518,如一套彈簧和/或一套彈性隔離器,用來抑止振動傳遞到支撐元件508。
如圖18所示,立式對稱振動研磨機(jī)500還規(guī)定了一對稱參考面510。上振動管502和下振動管504位于,如對稱設(shè)置于對稱參考面510的相反面。圖18說明上振動管502位于對稱參考面510的上方,而下振動管504位于對稱參考面510的下方,且上振動管502和下振動管504大致關(guān)于對稱參考面510對稱。
立式對稱振動研磨機(jī)500包括兩對激勵元件514激勵對514a、514b與上振動管502連接,其中第一對514a包括激勵元件5141、5142,第二對514b包括激勵元件5143、5144。此外,立式對稱振動研磨機(jī)500包括兩對激勵元件514激勵對514d、514e與下振動管504連接,其中第一對514d包括激勵元件5147、5148,第二對514e包括激勵元件5149、5150。每個激勵元件514設(shè)置為可引起一個方向或一個與振動管502、504大致相切的軸向的激勵,如移動或振動。
圖19是圖21所示的立式對稱振動研磨機(jī)500的上振動管502沿線19-19方向的俯視圖。圖20是圖21所示的立式對稱振動研磨機(jī)500的下振動管504沿線20-20方向的剖面圖。如圖19、20所示,立式對稱振動研磨機(jī)500可設(shè)置為每對激勵元件514中的一個激勵元件與另一個激勵元件514沿各自振動管502、504的圓周等距間隔。例如,在圖19中,在對514a中,激勵元件5141、5142相對于對方沿上振動管502的圓周等距間隔,在對514b中,激勵元件5143、5144相對于對方沿上振動管502的圓周等距間隔。
在如圖18到21所示的實(shí)施例中,上振動管502的激勵元件514沿圓周與其他上振動管502的激勵元件514不對齊。例如,激勵對514b的激勵元件5141、5142沿圓周與激勵對514b的激勵元件5143、5144不對齊。類似地,下振動管504的激勵元件514沿圓周與其他下振動管504的激勵元件514不對齊。例如,激勵對514d的激勵元件5147、5148沿圓周與激勵對514e的激勵元件5149、5150不對齊。
進(jìn)一步,圖18到21中,上振動管502和下振動管504的對應(yīng)的激勵元件514沿圓周不對稱。例如,與上振動管502連接的激勵對514a的激勵元件5141、5142,例如,位于與對稱參考面距離相等的對面,同與下振動管504連接的激勵對514d的激勵元件5147、5148相對應(yīng)。沿上振動管502圓周,激勵元件5141、5142沿圓周分別位于90°角和270°角,沿下振動管504圓周,激勵元件5147、5148沿圓周分別位于0°角和180°角。類似地,沿上振動管502圓周,激勵元件5143、5144沿圓周分別位于0°角和180°角,沿下振動管504圓周,激勵元件5149、5150沿圓周分別位于90°角和270°角。
在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,供給每個激勵元件514的能量根據(jù)激勵元件514和對稱參考面510間的距離決定。例如,供給每個激勵元件514的能量與激勵元件514和對稱參考面510間的距離成正比。
圖22到25根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例說明立式對稱振動研磨機(jī)。具體地,圖22是立式對稱振動研磨機(jī)600的局部透視圖。而圖25是圖22所示立式對稱振動研磨機(jī)600的側(cè)視圖。立式對稱振動研磨機(jī)600包括一上振動管602和下振動管604,上振動管602和下振動管604彼此連接,構(gòu)成一完整振動體606。完整振動體606由支撐元件支撐,如圖1所示的支撐元件,但圖22中所示僅為支撐元件608的局部。有利的是,完整振動體606和支撐元件608配置為上振動管602支撐在支撐元件608上,下振動管604懸掛在支撐元件608下。支撐元件608可包含一阻尼元件618,如一套彈簧和/或一套彈性隔離器,用來抑止振動傳遞到支撐元件608。
如圖22所示,立式對稱振動研磨機(jī)600還規(guī)定了一對稱參考面610。上振動管602和下振動管604位于,如對稱設(shè)置于對稱參考面610的相反面。圖22說明上振動管602位于對稱參考面610的上方,而下振動管604位于對稱參考面610的下方,且上振動管602和下振動管604大致關(guān)于對稱參考面610對稱。
立式對稱振動研磨機(jī)600包括一套激勵元件614激勵組614a與上振動管602連接,激勵組614a包括四個激勵元件6141、6142、6143和6144。激勵組614a的每個激勵元件均在平面620a上。此外,立式對稱振動研磨機(jī)600包括一套激勵元件614激勵組614b與下振動管604連接,激勵組614d包括四個激勵元件6147、6148、6149和6150。每個激勵元件614設(shè)置為可引起一個方向或一個與振動管602、604大致相切的軸向的激勵,如移動或振動。
圖23是圖25所示的立式對稱振動研磨機(jī)600的上振動管602沿線23-23方向的俯視圖。圖24是圖25所示的立式對稱振動研磨機(jī)600的下振動管604沿線24-24方向的剖面圖。如圖23、24所示,立式對稱振動研磨機(jī)600可設(shè)置為特定組中的每個激勵元件614與該組中的其他激勵元件614沿圓周等距間隔。例如,在圖23中,在組614a中,6141、6142、6143和6144相對于對方沿上振動管602的圓周,如相隔90°,等距間隔。類似地,在組614b中,6147、6148、6149和6150相對于對方沿下振動管604的圓周,如相隔90°,等距間隔。
在圖22到25所示的實(shí)施例中,上振動管602和下振動管604的激勵元件614沿圓周相互對齊。例如,激勵組614a中,激勵元件6141、6142、6143和6144沿上振動管602圓周分別位于0°、90°、180°和270°。類似地,激勵組614b中,激勵元件6147、6148、6149和6150沿下振動管604圓周分別位于0°、90°、180°和270°。應(yīng)該明白,其他實(shí)施例中,上振動管602和下振動管604的激勵元件614可沿圓周相互不對齊。
在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,供給每個激勵元件614的能量根據(jù)激勵元件614和對稱參考面610間的距離決定。例如,供給每個激勵元件614的能量與激勵元件614和對稱參考面610間的距離成正比。
本發(fā)明中可采用多種能量供應(yīng)方式。如前詳述,供應(yīng)給每個激勵元件的能量,如114、214等,可與激勵元件同對稱參考面的距離相應(yīng),如成正比。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例,圖26說明表示本發(fā)明的一個實(shí)施例中,應(yīng)用于使用電動馬達(dá),如圖4所示的電動馬達(dá)140,來驅(qū)動激勵元件的立式對稱振動研磨機(jī)700的能量供應(yīng)方式。例如,電動馬達(dá)740a用于驅(qū)動激勵元件7141。每個激勵元件,如激勵元件7141,其電動馬達(dá),如電動馬達(dá)740a,連接至各自的變速驅(qū)動單元715,如變速驅(qū)動單元715a。此外,每個電動馬達(dá),如電動馬達(dá)740a,連接至各自的編碼單元711,如編碼單元711a,該編碼單元可為感應(yīng)式傳感器。每個變速驅(qū)動單元715連接至一控制器717(此后為“PLC”)。PLC717連接至電源裝置719。PLC717還連接至轉(zhuǎn)換器721,轉(zhuǎn)換器721反過來連接至一用戶接口,如計(jì)算裝置723。通過這種方式,PLC717可編程,如由計(jì)算裝置723的用戶,來控制變速驅(qū)動單元715,如通過電壓。這種方式中,供給每個激勵元件714的電功率受到控制,以對應(yīng)激勵元件714與對稱參考面710間的距離,如成正比。此外,通過這種方式,PLC717編程操作變速驅(qū)動單元715,以使供給相應(yīng)激勵元件714的電功率等量,如位于對稱參考面710兩側(cè)且距對稱參考面710的距離相同的激勵元件714。編碼器711得到的數(shù)據(jù),如電動馬達(dá)740的速度等,送給PLC717,PLC717通過轉(zhuǎn)換器721把該數(shù)據(jù)送給計(jì)算裝置723。通過這種方式,電動馬達(dá)740的運(yùn)轉(zhuǎn),包括電動馬達(dá)740的同步,可通過用戶接口723監(jiān)視。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例,圖27還說明了另外一種應(yīng)用于使用液壓馬達(dá)來驅(qū)動激勵元件的立式對稱振動研磨機(jī)800的能量供應(yīng)方式。例如,液壓馬達(dá)840a用于驅(qū)動激勵元件8141。每個激勵元件,如激勵元件8141,其液壓馬達(dá),如液壓馬達(dá)840a,連接至各自的比例閥815,如比例閥815a。此外,每個液壓馬達(dá),如液壓馬達(dá)840a,連接至各自的編碼單元811,如編碼單元811a。每個比例閥815連接至一液壓動力供給裝置813。此外,比例閥815連接至一控制器817(此后為“PLC”)。每個PLC817連接至電源裝置819。PLC817還連接至轉(zhuǎn)換器821,轉(zhuǎn)換器821反過來連接至一用戶接口823。通過這種方式,PLC817可編程,如由計(jì)算裝置823的用戶編程,如用調(diào)制的電壓來控制比例閥815。這種方式中,供給每個激勵元件814的液壓功率受到控制,以對應(yīng)激勵元件814與對稱參考面810間的距離,如成正比。此外,通過這種方式,PLC817編程操作比例閥815,以使供給相應(yīng)激勵元件814的液壓功率等量,如位于對稱參考面810兩側(cè)且距對稱參考面810的距離相同的激勵元件814。編碼器811得到的操作數(shù)據(jù)送給PLC817,PLC817通過轉(zhuǎn)換器821把該數(shù)據(jù)送給計(jì)算裝置823達(dá)到監(jiān)視液壓馬達(dá)840工作的目的。
根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例,圖28還說明了另外一種應(yīng)用于使用風(fēng)動馬達(dá)來驅(qū)動激勵元件的立式對稱振動研磨機(jī)900的能量供應(yīng)方式。例如,風(fēng)動馬達(dá)940a用于驅(qū)動激勵元件9141。每個激勵元件,如激勵元件9141,其風(fēng)動馬達(dá),如風(fēng)動馬達(dá)940a,連接至各自的比例閥915,如比例閥915a。此外,每個風(fēng)動馬達(dá)940,如風(fēng)動馬達(dá)940a,連接至各自的編碼單元911,如編碼單元911a。每個比例閥915連接至一風(fēng)動動力供給裝置913。此外,比例閥915連接至一控制器917(此后為“PLC”)。每個PLC917連接至電源裝置919。PLC917還連接至轉(zhuǎn)換器921,轉(zhuǎn)換器921反過來連接至一用戶接口923。通過這種方式,PLC917可編程,如通過用戶接口923,來控制比例閥915,使供給每個激勵元件914的風(fēng)動功率對應(yīng)激勵元件914與對稱參考面910間的距離,如成正比。此外,通過這種方式,PLC917編程操作比例閥915,以使供給相應(yīng)激勵元件914的風(fēng)動功率等量,如位于對稱參考面910兩側(cè)且距對稱參考面910的距離相同的激勵元件914。編碼器911得到的操作數(shù)據(jù)送給PLC917,PLC917通過轉(zhuǎn)換器921把該數(shù)據(jù)送給計(jì)算裝置923達(dá)到監(jiān)視風(fēng)動馬達(dá)940工作的目的。
通過提供在立式對稱振動研磨機(jī)上更為均勻分布的振動力,本發(fā)明改進(jìn)了立式對稱振動研磨機(jī)的工作。例如,由激勵元件產(chǎn)生的力的分布和方向可導(dǎo)致位移呈圓錐形式分布的擺動運(yùn)動。此外,通過控制前述激勵元件的工作,可得到能量分布更為有效的振動力。圖29是代表常數(shù)頻率擺動分布的圓錐說明圖,如當(dāng)激勵元件工作時,以常數(shù)頻率振動。圖30是代表變量頻率擺動分布的偽圓錐說明圖,如當(dāng)激勵元件工作時,以變量頻率振動。此外,圖31代表在三個平面上的變量頻率擺動分布的偽圓錐說明圖,如當(dāng)激勵元件工作時,以變量數(shù)頻率振動。
此處詳細(xì)說明了本發(fā)明的數(shù)個實(shí)施例。但是,在不偏離本發(fā)明的精神和意圖下可對本發(fā)明進(jìn)行修改和變動。
權(quán)利要求
1.一種立式對稱振動研磨機(jī),其包括一上振動管和一下振動管,上振動管和下振動管連接構(gòu)成一完整振動體,該完整振動體由支撐元件支撐和懸掛,其中上振動管和下振動管位于對稱參考面的相反側(cè),且其中上振動管和下振動管各具有一與對稱參考面垂直的共同軸;多個激勵元件,上振動管和下振動管至少各連接有一個激勵元件,每個激勵元件均可導(dǎo)致振動管在與振動管大致切線方向的激勵,每個激勵元件以同一同步頻率轉(zhuǎn)動或擺動,其中供給每個激勵元件的功率與激勵元件距對稱參考面的距離成比例。
2.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為上振動管和下振動管的共同軸導(dǎo)向與重力方向一致。
3.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為每個激勵元件設(shè)置為使其轉(zhuǎn)動或擺動頻率是常量或變量。
4.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為每個激勵元件連接在一個振動管的側(cè)面。
5.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件成對分組安裝。
6.如權(quán)利要求5所述的振動研磨機(jī),其特征為在一對激勵元件中,激勵元件沿各自振動管圓周等距間隔。
7.如權(quán)利要求6所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件置于與對稱參考面平行的平面上。
8.如權(quán)利要求7所述的振動研磨機(jī),其特征為包括連接到上振動管的第一對激勵元件的平面與對稱參考面之間的距離同包括連接到下振動管的第二對激勵元件的平面與對稱參考面之間的距離相等。
9.如權(quán)利要求8所述的振動研磨機(jī),其特征為上振動管的激勵元件的轉(zhuǎn)軸相對于上振動管和下振動管的共同軸成一范圍在0度到180度的角。
10.如權(quán)利要求8所述的振動研磨機(jī),其特征為下振動管的激勵元件的轉(zhuǎn)軸相對于上振動管和下振動管的共同軸成一范圍在0度到180度的角。
11.如權(quán)利要求9所述的振動研磨機(jī),其特征為每個激勵元件同向轉(zhuǎn)動。
12.如權(quán)利要求10所述的振動研磨機(jī),其特征為每個激勵元件同向轉(zhuǎn)動。
13.如權(quán)利要求12所述的振動研磨機(jī),其特征為上振動管的激勵元件設(shè)置為與下振動管的激勵元件同向轉(zhuǎn)動。
14.如權(quán)利要求12所述的振動研磨機(jī),其特征為上振動管的激勵元件設(shè)置為與下振動管的激勵元件反向轉(zhuǎn)動。
15.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為振動管分成兩個腔體。
16.如權(quán)利要求15所述的振動研磨機(jī),其特征為每個腔體具有包含研磨介質(zhì)的格網(wǎng)。
17.如權(quán)利要求16所述的振動研磨機(jī),其特征為格網(wǎng)具有開口,其小于研磨介質(zhì)的最小尺寸。
18.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件以電磁方式工作。
19.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為振動器包含有偏心配重。
20.如權(quán)利要求19所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件由電動馬達(dá)驅(qū)動。
21.如權(quán)利要求20所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件由相對于激勵元件位于內(nèi)部的電動馬達(dá)驅(qū)動。
22.如權(quán)利要求20所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件由相對于激勵元件位于外部的電動馬達(dá)驅(qū)動,激勵元件和馬達(dá)通過一滑動元件和萬向節(jié)聯(lián)結(jié)。
23.如權(quán)利要求19所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件由液壓馬達(dá)驅(qū)動。
24.如權(quán)利要求19所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件由風(fēng)動馬達(dá)驅(qū)動。
25.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為支撐元件位于對稱參考面上。
26.如權(quán)利要求25所述的振動研磨機(jī),其特征為支撐元件設(shè)置為上振動管支撐在對稱參考面上,下振動管懸掛在對稱參考面下。
27.如權(quán)利要求1所述的振動研磨機(jī),其特征為支撐元件至少包含一套彈簧或一套彈性隔離器。
28.如權(quán)利要求18所述的振動研磨機(jī),其特征為激勵元件是電磁振動器。
29.如權(quán)利要求28所述的振動研磨機(jī),其特征為上、下振動管的激勵元件的擺動軸成一0度到90度的傾角。
30.如權(quán)利要求28所述的振動研磨機(jī),其特征為上振動管的激勵元件與下振動管的激勵元件對齊。
31.如權(quán)利要求28所述的振動研磨機(jī),其特征為上振動管的激勵元件與下振動管的激勵元件不對齊。
32.如權(quán)利要求8所述的振動研磨機(jī),其特征為包含第一對激勵元件和第二對激勵元件的各平面的激勵元件的功率與該平面與對稱參考平面的距離成正比。
33.如權(quán)利要求20所述的振動研磨機(jī),其特征為電驅(qū)動激勵元件通過由控制裝置控制的變速驅(qū)動單元操作。
34.如權(quán)利要求33所述的振動研磨機(jī),其特征為控制裝置為可編程邏輯控制器。
35.如權(quán)利要求33所述的振動研磨機(jī),其特征為控制裝置聯(lián)結(jié)至用戶接口,為控制裝置提供數(shù)據(jù)或接受向用戶顯示的操作數(shù)據(jù)。
36.如權(quán)利要求35所述的振動研磨機(jī),其特征為操作數(shù)據(jù)由編碼器產(chǎn)生。
37.如權(quán)利要求23所述的振動研磨機(jī),其特征為液壓驅(qū)動的激勵元件通過與液壓動力供給裝置連接的比例閥操作,比例閥由控制裝置控制。
38.如權(quán)利要求37所述的振動研磨機(jī),其特征為控制裝置為一可編程邏輯控制器。
39.如權(quán)利要求37所述的振動研磨機(jī),其特征為控制裝置聯(lián)結(jié)至用戶接口,為控制裝置提供數(shù)據(jù)或接受向用戶顯示的操作數(shù)據(jù)。
40.如權(quán)利要求39所述的振動研磨機(jī),其特征為操作數(shù)據(jù)由編碼器產(chǎn)生。
41.如權(quán)利要求24所述的振動研磨機(jī),其特征為汽動驅(qū)動的激勵元件通過與風(fēng)動動力供給裝置連接的比例閥操作,比例閥由控制裝置控制。
42.如權(quán)利要求41所述的振動研磨機(jī),其特征為控制裝置為一可編程邏輯控制器。
43.如權(quán)利要求41所述的振動研磨機(jī),其特征為控制裝置聯(lián)結(jié)至用戶接口,為控制裝置提供數(shù)據(jù)或接受向用戶顯示的操作數(shù)據(jù)。
44.如權(quán)利要求43所述的振動研磨機(jī),其特征為操作數(shù)據(jù)由編碼器產(chǎn)生。
45.一種研磨物質(zhì)的方法,包括以下步驟備有一立式對稱振動研磨機(jī),該立式對稱振動研磨機(jī)包括一上振動管和一下振動管,上振動管和下振動管連接構(gòu)成一完整振動體,該完整振動體由支撐元件支撐和懸掛,其中上振動管和下振動管位于對稱參考面的相反側(cè),且其中上振動管和下振動管各具有一與對稱參考面垂直的共同軸,該立式對稱振動研磨機(jī)還包括多個激勵元件,上振動管和下振動管至少各連接有一個激勵元件,每個激勵元件設(shè)置為均可導(dǎo)致振動管在與振動管大致切線方向的激勵,每個激勵元件設(shè)置為以同一同步頻率轉(zhuǎn)動或擺動;把物質(zhì)裝在上振動管或下振動管;由供給每個激勵元件的功率與激勵元件距對稱參考面的距離成比例,激勵這些激勵元件,使裝在上振動管或下振動管的研磨介質(zhì)研磨物質(zhì),
46.如權(quán)利要求45所述的方法,進(jìn)一步包含放置立式對稱振動研磨機(jī)的步驟,使上振動管和下振動管的共同軸導(dǎo)向與重力方向一致。
47.如權(quán)利要求45所述的方法,進(jìn)一步包含多個激勵元件以常量或變量頻率轉(zhuǎn)動或擺動的步驟。
48.如權(quán)利要求45所述的方法,進(jìn)一步包含把每個激勵元件連接在其中一個振動管的側(cè)面。
49.如權(quán)利要求45所述的方法,其中激勵元件位于與對稱參考面平行的平面上。
50.如權(quán)利要求49所述的方法,其特征為包含連接至上振動管的第一對激勵元件的平面與對稱參考平面的距離同包含連接至下振動管的第二對激勵元件的平面與對稱參考平面的距離相等。
全文摘要
一種包含上振動管和下振動管的立式對稱振動研磨機(jī)。上振動管和下振動管連接構(gòu)成一完整振動體。該完整振動體由支撐元件支撐或懸掛。上振動管和下振動管位于對稱參考面的相反側(cè)且大致關(guān)于該對稱參考面對稱。上振動管和下振動管各具有一與對稱參考面垂直的共同軸。工作時,振動研磨機(jī)設(shè)置為最好使上振動管和下振動管的共同軸導(dǎo)向與重力方向一致。立式對稱振動研磨機(jī)還包括許多激勵元件,上振動管和下振動管至少連接一個激勵元件。每個激勵元件均可導(dǎo)致振動管在與振動管大致切線方向的激勵。每個激勵元件以同一同步頻率轉(zhuǎn)動或擺動。供給每個激勵元件的功率與激勵元件距對稱參考面的距離成正比。
文檔編號B02C17/00GK1774298SQ200480010001
公開日2006年5月17日 申請日期2004年2月19日 優(yōu)先權(quán)日2004年2月19日
發(fā)明者菲利克斯·阿圖羅·格邁茲·薩徹茲 申請人:菲利克斯·阿圖羅·格邁茲·薩徹茲
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