防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及在半導(dǎo)體裝置，IC封裝，印刷基板，液晶面板或有機(jī)EL面板等的制造中作為防塵器使用的防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件。
【背景技術(shù)】
[0002]LSI，超LSI等的半導(dǎo)體或液晶面板等的制造中，要向半導(dǎo)體晶片或液晶用玻璃板照射紫外光進(jìn)行圖案的制作，此時(shí)，如果所用的光掩模上有灰塵附著，該灰塵就會(huì)將紫外光進(jìn)行遮擋，反射，從而就會(huì)發(fā)生轉(zhuǎn)印的圖案的形變，短路等，從而帶來品質(zhì)的降低。
[0003]因此，這些作業(yè)，通常在無塵室中進(jìn)行，即使如此也難以總是保持光掩模清潔。因此，要在光掩模表面貼附作為防塵器的防塵薄膜組件后再進(jìn)行曝光。在該場(chǎng)合，異物不會(huì)在光掩模的表面上直接附著，而是附著在防塵薄膜組件上，這樣，在光刻時(shí)只要將焦點(diǎn)對(duì)在光掩模的圖案上，防塵薄膜組件上的異物就與轉(zhuǎn)印沒有關(guān)系了。
[0004]—般說來，防塵薄膜組件，是通過將由光可以良好透過的硝酸纖維素，醋酸纖維素或氟樹脂等制成的透明的防塵膜貼附于由鋁合金，不銹鋼，工程塑料等制成的防塵薄膜組件框架的上端面而構(gòu)成。再者，防塵薄膜組件框架的下端，具有為了安裝光掩模的由聚丁烯樹脂，聚醋酸乙烯基樹脂，丙烯酸樹脂，有機(jī)硅樹脂等形成的粘著層以及根據(jù)必要設(shè)置以保護(hù)粘著層為目的離型層(分離片)。
[0005]近年，伴隨著曝光圖案的細(xì)微化，由于貼附防塵薄膜組件而造成的光掩模的變形成了問題。在光掩模和防塵薄膜組件框架通過掩模粘著劑結(jié)合在一起時(shí)，防塵薄膜組件框架的形狀會(huì)影響光掩模的形狀，使光掩模表面描繪的圖案變形，所以期望有一種對(duì)安裝后的光掩模形狀的影響極小的防塵薄膜組件。
[0006]作為其解決方案，有人提議，例如可以使掩模粘著材變得柔軟，或?qū)⒎缐m薄膜組件框架的平面度提高。在這些的提案中，雖然可以降低防塵薄膜組件框架對(duì)光掩模形狀的影響，但是不充分。這是由于防塵薄膜組件框架以及光掩模的平面度，都不完全理想，如將它們組合，其影響會(huì)有大有小。
[0007]因此，也有這樣的提議，即更本質(zhì)地，使防塵薄膜組件框架的剛性盡可能地變小，使其良好地對(duì)光掩模的形狀進(jìn)行追從，例如，使用樹脂等的剛性的低的材質(zhì)，再者，使防塵薄膜組件框架的高度變低，使截面積減小，從而使剛性降低等(專利文獻(xiàn)1，2以及3參照)。
[0008]另一方面，在幾乎所有的曝光裝置中，光掩模在曝光中都要進(jìn)行水平支持，所以使用中的光掩模由于其自重會(huì)發(fā)生撓曲的問題。如果光掩模發(fā)生過大的撓曲，其表面描繪的曝光圖案就會(huì)形變，不能按最初設(shè)計(jì)的那樣進(jìn)行圖案曝光。為了防止該問題，通常有根據(jù)光掩模的大小來使板厚增加，使自重?fù)锨拇笮〗档偷狡谕狄韵碌姆椒?專利文獻(xiàn)4參照)，再者，還有，特別是在大模型的曝光機(jī)中，用負(fù)壓等來對(duì)光掩模的撓曲進(jìn)行補(bǔ)正的方法(專利文獻(xiàn)5參照)，另外，還有對(duì)光掩模的自重?fù)锨霉鈱W(xué)系統(tǒng)進(jìn)行補(bǔ)正的方法(專利文獻(xiàn)6參照)等。
[0009]防塵薄膜組件以及防塵薄膜組件框架，通常以光掩模具有理想的平面為前提，進(jìn)行平面制作，其平面度越高(高平坦)越好，但是與使用中(曝光中)的光掩模的形狀并一定相合。因此，為了使他們良好的一致，可以進(jìn)一步采取將光掩模的厚度增加，使自重?fù)锨拇笮∽冃〉膶?duì)策，但是該對(duì)策，由于光掩模素材為價(jià)格高的合成石英，所以具有越增加板厚，成本以及重量越増加的問題。
[0010]再者，作為另一對(duì)策，是將防塵薄膜組件框架的剛性變得極小，使其對(duì)光掩模形狀的追從性進(jìn)一步提高。但是，在對(duì)防塵膜的張貼狀況進(jìn)行維持的同時(shí)，為了使其從制造到貼附的作業(yè)中不變形以及防塵膜的褶皺問題，防塵薄膜組件框架的剛性要越高越好，由此如果防塵薄膜組件框架的剛性降低過大，會(huì)在制造以及處理中產(chǎn)生問題。所以該對(duì)策，在實(shí)際上，難以使防塵薄膜組件框架的剛性大幅度地降低。
[0011 ] 如此，曝光中的光掩模會(huì)由于自重而發(fā)生的撓曲，另一方面，在該光掩模上將防塵薄膜組件安裝時(shí)，曝光中的光掩模的形狀受自重?fù)锨绊懚a(chǎn)生的形狀變化和對(duì)此變化進(jìn)行抵抗的防塵薄膜組件的形狀變化夾雜在一起，從而會(huì)呈現(xiàn)復(fù)雜的形狀，但是至今為止，對(duì)防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件在曝光中的撓曲給光掩模形狀帶來的變形加以考慮后，再進(jìn)行防塵薄膜組件制作的例子還不存在。
[0012]【先行技術(shù)文獻(xiàn)】
[0013]【專利文獻(xiàn)】
[0014]【專利文獻(xiàn)I】日本特開2011— 7933號(hào)
[0015]【專利文獻(xiàn)2】日本特開2011— 7934號(hào)
[0016]【專利文獻(xiàn)3】日本特開2011— 7935號(hào)
[0017]【專利文獻(xiàn)4】日本特開2007- 176782號(hào)
[0018]【專利文獻(xiàn)5】日本特開平10- 198039號(hào)
[0019]【專利文獻(xiàn)6】日本特開2000- 47390號(hào)
[0020]如此，本發(fā)明就是鑒于上述情況而完成的。即本發(fā)明的目的是，提供一種在易于制造以及操作的同時(shí)，可以在防塵薄膜組件貼附于光掩模時(shí)對(duì)曝光中保持水平的光掩模的變形進(jìn)行抑制的防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0021]本發(fā)明的發(fā)明人，為了達(dá)到上述目的進(jìn)行了深入地研究，發(fā)現(xiàn)如將與光掩模由于自重而產(chǎn)生撓曲的大小為同等程度且同方向的形變預(yù)先賦予防塵薄膜組件框架的至少一對(duì)邊的中央部，然后將用該防塵薄膜組件框架制作的防塵薄膜組件貼附于光掩模時(shí)，就可以將該防塵薄膜組件在其貼附前后對(duì)光掩模的形狀的影響抑制在小的范圍，從而完成了本發(fā)明。
[0022]S卩，本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的特征在于，在具有長邊和短邊的矩形的防塵薄膜組件框架至少一對(duì)的邊上賦予形變，該形變的大小，在一對(duì)的邊的中央部，與防塵膜面垂直的方向上，為邊長的0.01?1%。
[0023]再者，優(yōu)選所述形變的大小與防塵薄膜組件框架的邊長的比要處于，防塵薄膜組件貼附領(lǐng)域的最大自重?fù)锨拇笮∨c適用的光掩模的邊長的比加或減30%以內(nèi)的范圍，該防塵薄膜組件框架的形變的方向?yàn)?，在貼附于光掩模時(shí)，向著光掩模自重?zé)较驗(yàn)橥範(fàn)睿M(jìn)一步，優(yōu)選該防塵薄膜組件框架的高度為2?10_。
[0024]本發(fā)明的防塵薄膜組件的特征為用這樣賦予了形變的防塵薄膜組件框架來構(gòu)成。
[0025]【發(fā)明的效果】
[0026]根據(jù)本發(fā)明，在將用被賦予了形變的防塵薄膜組件框架構(gòu)成的防塵薄膜組件貼附于光掩模時(shí)，可以將帶給使用中的光掩模的形狀的變動(dòng)抑制在很小。
【附圖說明】
[0027]圖1本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的一實(shí)施方式的平面圖。
[0028]圖2本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的一實(shí)施方式的正面圖。
[0029]圖3本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的一實(shí)施方式的右側(cè)面圖。
[0030]圖4本發(fā)明的防塵薄膜組件的使用中的一實(shí)施方式的圖。
[0031]圖5本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的形變測(cè)定方法的圖。
[0032]圖6本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的形變加工方法的圖。
[0033]圖7本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的形變加工方法的圖。
[0034]圖8本發(fā)明的防塵薄膜組件的斜視圖。
[0035]圖9評(píng)價(jià)方法的概略圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明，本發(fā)明，以所有的在曝光機(jī)內(nèi)具有因自重造成的撓曲發(fā)生的光掩模上安裝的防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件為對(duì)象，其大小以及用途沒有限定。具體的說，本發(fā)明的防塵薄膜組件框架，可以適用于從光掩模的形狀特別重要的尖端半導(dǎo)體制造中使用的邊長為50mm左右的防塵薄膜組件，到光掩模的自重?fù)锨拇笮√貏e大的邊長為500?2000mm的液晶以及有機(jī)EL面板制造用途的防塵薄膜組件。
[0037]圖1，圖2以及圖3為本發(fā)明的防塵薄膜組件框架的一實(shí)施方式的圖。圖1為平面圖，圖2為正面圖，圖3為右側(cè)面圖。
[0038]防塵薄膜組件框架10，為具有長邊和短邊的矩形，在至少一對(duì)的邊上，與防塵膜接著的面垂直的方向上有形變。在該實(shí)施方式中，如圖3所示，形變被賦予短邊，形變的大小d，優(yōu)選為短邊的全長L的0.01?1%的范圍。所給予的形變的大小d，可以如后述那樣，與適用的光掩模的撓曲的大小相對(duì)應(yīng)來進(jìn)行決定，但是，邊長的0.01 %以下的小的形變，效果不能充分發(fā)揮，并且加工的大小過少，不能制造安定的框架。另一方面，對(duì)于邊長賦予超過1%那樣大的形變的場(chǎng)合，在防塵薄膜組件的制造工程中，會(huì)由于形變，使粘著劑，接著劑的涂布以及膜的接著作業(yè)發(fā)生困難，故不優(yōu)選。